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影響硬鉻鍍層硬度有哪些因素

來(lái)源:m.hg8736.com 發(fā)表時(shí)間:2017-01-15

      鍍硬鉻一般采用比較多的是常在高溫條件下使用的機(jī)械,如模具等。那么在我們電鍍硬鉻過(guò)程中,影響其鍍層硬度的因素有哪些呢?下面我們來(lái)分享一下。
1、鉻酐濃度和硬度的關(guān)系
      在其它工藝條件相同的時(shí)候,鉻酐濃度低時(shí)硬度高。但濃度低,鍍液變化快,不穩(wěn)定。
2、硫酸含量和硬度的關(guān)系
      在正常的鍍鉻工藝規(guī)范中。鉻酐與硫酸的比值應(yīng)該保持在100:1。在其它濃度不變時(shí),提高硫酸含量,鉻層的硬度也相應(yīng)增高。但在二者比值為100:1.4,再提高硫酸含量硬度值又會(huì)下降。
3、電流密度和硬度的關(guān)系
      在正常溫度下,鉻層硬度隨著電流密度的增加而提高。當(dāng)電流密度達(dá)到一定限時(shí)硬度趨向穩(wěn)定。
4、鍍鉻液穩(wěn)定和硬度的關(guān)系
      在較高溫度(65~75℃)下,由稀溶液鍍出的鉻層比由濃鍍液鍍出的鉻層硬度高15~20%;在較低溫度(35~45℃)下,由稀溶液鍍出的鉻層比由濃鍍液鍍出的鉻層硬度沒(méi)有多大差別。
5、鍍鉻層厚度與硬度的關(guān)系
      一般硬鉻鍍層硬度是隨厚度提高而提高的,硬度的高值在0.2㎜左右。以后,即使在提高厚度,硬度也不會(huì)再增加。
6、鉻鍍層隨著受熱溫度的提高,硬度顯著下降。
      為了提高硬鉻的電流效率、硬度、光澤度、深度能力及分散能力,我司研發(fā)了硬鉻添加劑:HN-25 硬鉻電鍍工藝及HN-25R 硬鉻電鍍工藝。
      它們共有的特性:不含氟化物的配方,不會(huì)浸蝕工件的低電流區(qū);不會(huì)浸蝕鉛錫合金陽(yáng),無(wú)需使用特殊陽(yáng)材料;陰電流效率高,可達(dá) 22-26%;鍍層厚度均勻,細(xì)致光亮;鍍層的顯微硬度高,防腐能力好。
      另外,為了能消除了鉻霧對(duì)環(huán)境的污染,節(jié)省了排風(fēng)設(shè)備的維修費(fèi)用,我司還研發(fā)了鉻霧抑制劑:HN-701鉻霧抑制劑。它不僅節(jié)約了鉻酸的使用,還能明顯改善鉻層微裂紋程度,提高鉻層硬度,增加結(jié)合力。

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