一般鍍鉻層厚度的均勻性取決于陽(yáng)與鍍件的相互關(guān)系。通常情況下，陽(yáng)與鍍件的間距越近，鍍鉻層越能與鍍件的幾何形狀相一致。但是，當(dāng)陽(yáng)與鍍件外徑不相似時(shí)，如果增大陽(yáng)與鍍件的間距，可以使電流在陽(yáng)表面上分布較均勻;如果陽(yáng)與鍍件的間距太近，則電流分布反而不均勻。電鍍外徑工件時(shí)，陽(yáng)與鍍件的間距應(yīng)控制在10～25 cm范圍內(nèi)。如果陽(yáng)離鍍件太遠(yuǎn)，則溶液電阻增大，電能損耗增加。在操作中應(yīng)做到以下幾點(diǎn)：

1、形狀較簡(jiǎn)單的鍍件，可與陽(yáng)靠近些;形狀不規(guī)則的鍍件，與陽(yáng)的間距應(yīng)盡量大些。

2、大小較懸殊的鍍件不能同槽進(jìn)行電鍍，避免電流分布呈嚴(yán)重的不均勻狀態(tài)。

3、鍍件放置的不同部位與陽(yáng)的間距應(yīng)盡量相等，這樣可使溶液的電阻相似，電流分布均勻。

4、將鍍件(尤其是軸)定位在以4根陽(yáng)組成的、各自的“箱式”中，讓電流在鍍件表面能均勻地分布，避免產(chǎn)生橢圓度。

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