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解析硬鉻層退鍍后再鍍困難

來源：m.hg8736.com 發(fā)表時(shí)間：2017-06-12

硬鉻層退鍍后再鍍往往較為困難，甚至局部或全部無鉻沉積,這主要是由于鍍件在第一次鍍鉻過程中嚴(yán)重滲氫和退鉻過程中游離出大量的碳之故，這種情況對鑄件鍍鉻尤為嚴(yán)重，由于鑄件中含大量的碳，并有縮孔、氣孔、裂紋和砂眼等存在，因而硬鉻層退除后再鍍都需根據(jù)具體情況而定。
一般碳素鋼材料上薄層鉻可參照裝飾鉻的電解退除，采用此法在鍍鉻時(shí)不會出現(xiàn)問題。對于鍍鉻層較厚，或是鑄鐵件，或是合金鋼件表面的鍍鉻層退除后再鍍鉻是有一定難度的，往往見猛烈地析出氫氧而未能見到鉻的沉積，產(chǎn)生這種現(xiàn)象的原因主要是由初始鍍鉻時(shí)受過滲氫之故，導(dǎo)致退除后鍍鉻時(shí)氫的過電位變小。
惟一的辦法是在原先的鉻層除后增加一道驅(qū)氫工序，驅(qū)氫方法可按常規(guī)在烘箱內(nèi)烘烤，也可在發(fā)藍(lán)溶液中按正常的發(fā)藍(lán)工藝處理1-2h,然后退除發(fā)藍(lán)膜。經(jīng)上述兩種方法之一的驅(qū)氫處理之后再鍍鉻，即能獲得理想的鍍鉻層。我公司興化市亞泰化工有限公司推出了CA-2000電鍍硬鉻新工藝，大大降低了客戶的生產(chǎn)成本，提高了加工品質(zhì)。CA -2000電鍍硬鉻工藝所得的鍍層性能(包括鍍層外觀、光亮度、硬度、耐磨性能、耐腐蝕性能等)均達(dá)到甚至超過其性能。
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