電鍍硬鉻的鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的惟一來源。實踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變動。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，陰電流密度l0A/dm2時，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變動，甚至高達(dá)800g/L時，均可獲得光亮鍍鉻層。但這并不表示鉻酐濃度可以隨意改變，一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為l50～400g/L之間。

      但采用電鍍硬鉻的高濃度鉻酸電解液時，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，一方面造成材料的無謂消耗，同時還對環(huán)境造成一定的污染。而低濃度鍍液對雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。含鉻酐濃度低的鍍液電流效率高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。

      您如果對我們的產(chǎn)品感興趣或者有任何的疑問，您可以直接給我們留言或直接與我們聯(lián)絡(luò)，我們將在收到您的信息后，會第一時間及時與您聯(lián)絡(luò)， 我們衷心的希望能與各屆朋友合作，攜手未來，共享成功的成果！

上一個 : 電鍍硬鉻的技術(shù)要求有哪些    下一個 : 分析不銹鋼鍍鉻的前處理要求